| 項(xiàng)目 | 描述 | |
| 斷面加工臺(tái) | 平面研磨臺(tái) | |
| 氣源 | 氬氣(Ar) | |
| 加速電壓 | 0-6Kv | |
| 最大研磨速率﹡¹﹡²（硅材質(zhì)） | 約300μm/h﹡¹﹡² |
約20μm/h﹡³（點(diǎn)） 約2μm/h﹡?（面） |
| 最大樣品尺寸 | 20（W）×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X±7mm,Y0－＋3mm | X0－＋5mm |
| 旋轉(zhuǎn)角度 | - | 1r/m，25r/m |
| 擺動(dòng)角度 | ±15°，±30°，±40° | ±60°，±90° |
| 傾斜 | - | 0-90° |
| 氣體流量控制系統(tǒng) | 流量調(diào)節(jié)器 | |
| 排氣系統(tǒng) | 渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí)，135L/min,60Hz時(shí)，162L/min) | |
| 儀器外觀(guān)尺寸 | 616（W）×705(D)×312(H)mm | |
| 儀器重量 | 主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg | |
| 可選附件 | 光學(xué)顯微鏡（用于觀(guān)測(cè)研磨中的樣品） | |
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﹡¹：此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的最大深度值 ﹡²：此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值 ﹡³：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm |
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